真空管式爐的*設計能夠實現(xiàn)在真空保護條件下對樣品快速升降溫，四面加熱，溫場更均勻，立式結構使得氣體排放更加順暢，爐體垂直安裝在可移動支架上有利于爐管取放溫度的均勻性，可以預抽真空并能通氫氣、氬氣、氮氣、氧氣、一氧化碳、氨分解氣等氣體，該爐具有溫場均衡、表面溫度低、升降溫度速率快、節(jié)能等優(yōu)點，特別適合薄膜生長、電極測試、氧化物晶體生長、快速退火等實驗需要。
由于真空管式爐的種類是比較多的，并且每個對真空管式爐的真空系統(tǒng)要求都是不一樣的，所以咱們就真空度而言，有低真空，中真空，高真空三個系統(tǒng)。下面來詳細說下這三個真空系統(tǒng)的差異。
1、低真空系統(tǒng)
真空管式爐的低真空系統(tǒng)適用于規(guī)劃的真空管式爐，如預抽低真空井式爐，大多以油封式旋轉機械泵為主泵。
2、中真空系統(tǒng)
中真空系統(tǒng)適用于真空度在規(guī)劃的真空管式爐，中真空系統(tǒng)在真空管式爐的運用中是比較廣泛的，一般由兩級真空泵機組組成。初級泵多選用旋轉機械泵或滑閥式機械泵，主泵為機械增壓泵或油增壓泵。
3、高真空系統(tǒng)
高真空系統(tǒng)一般由三級真空泵機組組成，主泵一般選用油渙散泵，離子泵，初級泵大都也是選用旋轉機械或滑閥式機械泵。真空管式爐的真空系統(tǒng)咱們是否有所了解呢？咱們可以做個參看，然后依據(jù)自己的需求來挑選合適的真空系統(tǒng)。
真空管式爐主要應用于院校實驗室、工礦企業(yè)實驗室，應用于高、中、低溫CVD工藝，如碳納米管的研制，晶體硅基板鍍膜，金屬材料擴散焊接以及真空或氣氛下的熱處理等。
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