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蠕動泵是一種可控制流速的液體輸送裝置，具有輸送精度高、較強的耐腐蝕性、剪切作用小、操作簡單及易于維護(hù)等優(yōu)勢，所以廣泛應(yīng)用在科研、制藥、化工、環(huán)保、飲料、食品、印刷等各領(lǐng)域。其在科研實驗室常被用于細(xì)胞組織輸送、標(biāo)本脫色、灌注、液體色譜分析以及酸性或堿性溶液輸送等。實驗室領(lǐng)域蠕動泵在小體積流體分配和計量方面具有很好的重復(fù)性精度。無需安裝任何閥，消除了流體常見的阻塞及虹吸現(xiàn)象。實驗室研發(fā)過程中常見的應(yīng)用場合有：細(xì)胞組織輸送、標(biāo)本脫色、灌注、液體色譜分析以及酸性或堿性溶液輸送。食品、...

管式爐爐管內(nèi)的壓力應(yīng)保持在1個標(biāo)準(zhǔn)大氣壓，不得低于1個標(biāo)準(zhǔn)大氣壓或大于0.02MPa。這種方法可以保證爐管內(nèi)的壓力在這個范圍內(nèi)，氣瓶必須配備減壓閥。建議選擇0-0.6mpa范圍的減壓閥。不要選擇大范圍的減壓閥（如0-2.5mpa），這樣不準(zhǔn)確，容易爆裂石英管。減壓閥開到0-0.05mpa為宜，不能超過0.05Mpa。當(dāng)管式爐爐溫超過1000℃時，不允許在爐管內(nèi)進(jìn)行真空燒結(jié)。最好保持微正壓狀態(tài)，保護(hù)燒結(jié)氣氛。建議長時間使用的石英管溫度不超過11??00℃。如果您擔(dān)心氣壓太高或燃...

箱式爐采用雙層外殼結(jié)構(gòu)和PID程序控溫系統(tǒng)，移相觸發(fā)，可控硅控制。該爐采用氧化鋁多晶纖維材料制成，雙層爐殼之間裝有風(fēng)冷系統(tǒng)，可快速升降溫。外殼整體密封，蓋板用硅膠泥密封，爐門用硅膠墊片密封，氣體通過流量計后進(jìn)出后室。多爐進(jìn)出口，可預(yù)抽真空，可通氬、氮氣、氧氣、惰性氣體等。爐具有溫度場平衡、表面溫度低、升降溫速度快、節(jié)能等優(yōu)點，是大專院校、科研院所、工礦企業(yè)進(jìn)行氣氛保護(hù)燒結(jié)和氣氛還原的理想產(chǎn)品。1、可接觸氣體：所有惰性氣體、氮氣、氬氣、氧氣、二氧化碳、水蒸氣等。2、外觀設(shè)計：采...

管式爐是在沉底材料上生長優(yōu)質(zhì)石墨烯、碳納米管和碳化硅的專用設(shè)備，廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體、納米材料、碳纖維、碳化硅、涂層等新材料和新工藝。它在使用前需要做好哪些準(zhǔn)備工作呢？1、設(shè)計溫度升降曲線。升溫速率不得高于10℃/min，降溫速率應(yīng)低于15℃/min。2、清潔環(huán)境。3、每周開始使用時，檢查機械泵油路是否在標(biāo)線以上，取下兩端蓋板，用吸塵器清潔剛玉爐管。4、將樣品舟推入剛性管式爐中間（恒溫長度10cm）。5、塞住兩個絕緣爐塞，使第二個爐塞的末端與爐體側(cè)面齊平。6、安裝燃?xì)鉅t法蘭，確認(rèn)...

真空鍍膜設(shè)備主要指一類需要在較高真空度下進(jìn)行的鍍膜，具體包括很多種類，包括真空離子蒸發(fā)，磁控濺射，MBE分子束外延，PLD激光濺射沉積等很多種。主要思路是分成蒸發(fā)和濺射兩種。蒸發(fā)鍍膜一般是加熱靶材使表面組分以原子團或離子形式被蒸發(fā)出來，并且沉降在基片表面，通過成膜過程(散點-島狀結(jié)構(gòu)-迷走結(jié)構(gòu)-層狀生長)形成薄膜。對于濺射類鍍膜，可以簡單理解為利用電子或高能激光轟擊靶材，并使表面組分以原子團或離子形式被濺射出來，并且最終沉積在基片表面，經(jīng)歷成膜過蒸發(fā)鍍膜設(shè)備+所鍍產(chǎn)品圖蒸發(fā)鍍...

噴涂一直存在于我們的生活中，長期以來被用于多種用途，包括噴涂裝飾性和保護(hù)性涂料。因此，它是材料科學(xué)家制備薄膜的又一工具。在噴涂中，噴嘴尺寸、噴涂形狀、噴嘴到基材的距離、噴涂速度和噴涂過程中基材的加熱都是可控的參數(shù)，以達(dá)到理想效果。使用超聲波霧化模塊，可使噴霧溶液均質(zhì)化，霧滴大小得到有效控制（噴嘴頻率會影響霧滴大?。?，可分布微霧量，從而保證成分和結(jié)構(gòu)的均勻性和所得薄膜和圖案的準(zhǔn)確性。材料浪費保持在低限度，設(shè)備操作人員的風(fēng)險很小。超聲波霧化模塊的工作原理是利用超聲波換能器將高頻聲...

電子在電場的作用下加速飛向基片的過程中與氬原子發(fā)生碰撞，電離出大量的氬離子和電子，電子飛向基片。氬離子在電場的作用下加速轟擊靶材，濺射出大量的靶材原子，呈中性的靶原子(或分子)沉積在基片上成膜。二次電子在加速飛向基片的過程中受到磁場洛侖磁力的影響，被束縛在靠近靶面的等離子體區(qū)域內(nèi)，該區(qū)域內(nèi)等離子體密度很高，二次電子在磁場的作用下圍繞靶面作圓周運動，該電子的運動路徑很長。磁控濺射包括很多種類。各有不同工作原理和應(yīng)用對象。但有一共同點：利用磁場與電場交互作用，使電子在靶表面附近成...