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  • 2017

    12-6

    單溫區(qū)管式爐只有一個恒定溫區(qū),而雙溫區(qū)管式爐有2個溫區(qū)。一般來說,單溫區(qū)管式爐用的要相對多些,雙溫區(qū)在做火貨處理等試驗更有優(yōu)勢。那怎么選擇zui為適合自己的管式爐呢?如果只是固相燒結樣品的話,單溫區(qū)管式爐是*足夠的,畢竟不會一根管子去同時燒幾個溫度不同的樣品。單溫區(qū)管式爐采用的電阻絲加熱沒使用的是KANTHALA1的電阻絲,電阻均勻,發(fā)熱量均衡,而市面上絕大多數的廠家采用的是FE-CR-ALLOYDOPEDBYMO的電阻絲,有時候會出現電阻不均衡,發(fā)熱不均勻,從而影響樣品的燒...

  • 2017

    11-21

    小型蒸鍍儀是一款小型真空鍍膜儀,特別適合蒸鍍一些輕金屬,如Al.Mg,和Li等。同時也可對樣品進行鍍碳處理,zui大可處理的樣品直徑為50mm。小型蒸鍍儀的使用可分為34步,即蒸鍍前準備工作、蒸鍍儀的預熱、蒸鍍薄膜以及關機.1、蒸鍍前準備工作:1.1)開充氣閥,對鐘罩內充氣,再升鐘罩;1.2)根據鐘罩內是否清潔,先使用酒精清洗鐘罩內的零部件;1.3)安裝鉬舟,并將鋁絲條放入鉬舟中,并將所要沉積的襯底粘附于鋁板上;1.4)降鐘罩,在鐘罩下降的同時要觀察是否存在物品及雜物存在于鐘...

  • 2017

    11-8

    3靶等離子濺射儀的使用分3個步驟,即裝樣品、抽真空、濺射,待廠家為您一一講解:一、裝樣品1、充氣:打開充氣旋鈕,使得空氣進入鐘罩。2、開電源總開關,接通電源。3、升鐘罩:將“升”開關撥到下方,待鐘罩升到合適位置時,按住“?!卑粹o,鐘罩停止上升,將“升”開關撥回到上方。4、放樣品:將放有樣品的載物臺固定到鐘罩中。5、降鐘罩:按一下“降”按鈕,鐘罩開始往下降,降到適當的位置使得鐘罩密封時自動停止。(注意,在鐘罩將要降到底時可以在前邊稍往上抬鐘罩,以保證鐘罩的密封效果,利于后面的真...

  • 2017

    10-24

    高真空蒸發(fā)鍍膜儀應用十分廣泛,如今在我們的生活中到處可見,是*的一項技術。由真空鍍膜室、蒸發(fā)源、真空機組、卡具、蒸發(fā)電源、控制系統與輔助裝置等組成。高真空蒸發(fā)鍍膜儀主要指一類需要在較高真空度下進行的鍍膜,具體包括很多種類,包括真空離子蒸發(fā),磁控濺射,MBE分子束外延,PLD激光濺射沉積等很多種。主要思路是分成蒸發(fā)和濺射兩種。在高真空蒸發(fā)鍍膜儀的使用中,有3大要素是需要用戶特別留意:清潔真空鍍膜機每完成200個鍍膜程序以上,應清潔工作室一次。方法是:用燒堿(NaOH)飽和溶液反...

  • 2017

    10-11

    等離子鍍膜設備是一款小型的射頻(RF)等離子體磁控濺射鍍膜儀系統,系統中包含了所有所需的配件,如300W(13.5MHz)的RF電源、2“的磁控濺射頭、石英真空腔體、真空泵和溫度控制器等。對于制作一些金屬薄膜及非金屬薄膜,它是一款物美價廉的實驗幫手。等離子鍍膜設備優(yōu)勢:1、AF噴涂設備采用原裝德國進口納米噴頭,噴頭采用高低壓轉換霧化設計,使液態(tài)分子極精細,且不影響藥水效果;2、鋨存儲器可拆卸:具有密封式結構,可冷凍保存;3、理論設計產能3000片-4000片/小時;4、噴嘴運...

  • 2017

    9-21

    真空管式爐是在真空環(huán)境中進行加熱的設備,一般由爐膛、電熱裝置、密封爐殼、真空系統、供電系統和控溫系統等組成。真空爐按加熱元件分為真空電阻爐、真空感應爐、真空電弧爐、真空自耗電弧爐、電子束爐和等離子爐等。真空管式爐一般在春秋季節(jié)泄漏故障較多,長期閑置的真空爐在才次使用時真空爐泄漏故障比較易發(fā)生。這時間就必須進行真空檢漏,真空檢漏一般采取每月一次測壓升率(在常溫下,關閉所有真空閥,停止真空系統運轉,1Omin后讀一個數,1h后再讀一個數,兩數之差是壓升率的數值),掌握設備泄漏變化...

  • 2017

    9-7

    小型真空管式爐的成套供應范圍有溫度控制器、熱電偶、補償導線等。溫度控制有繼電器控制、可控硅控制二種,由于是間歇式作業(yè)爐,一般都采用40段PlD可編程控制,能嚴格控制產品的燒制過程。小型真空管式爐安裝注意事項1、電爐不需特殊安裝,只需平放在室內地面或臺架上??刂破鲬旁诠ぷ髋_上,工作臺面的傾斜度不得超過5度。控制器離電爐zui小距離不得少于0.5米。控制器不宜放在電爐上面,以免影響控制器正常工作。2、檢查接線無誤后即可通電,首先合上電源開關,然后將控制器面板上的鈕子開關拔向開的...

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