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OTF-1200X-RTP-II-5是一款快速熱處理爐，其爐腔體是一直徑為11英寸的石英管。此款設備專門實際針對于熱蒸發(fā)或CSS（Close Spaced Sublimation）鍍膜實驗，其鍍膜面積可達到5"x5"。此款高溫爐的加熱元件是兩組紅外燈管（分別位于頂部和底部），Z大升溫速率為20oC/s 。采用PID方式進行溫度調(diào)節(jié)，可設置30段升降溫程序。儀器面板上安裝有RS485接口，

OTF-1200X-HP-55是一款通過CE認證的開啟式管式爐，其爐管采用無縫鎳基合金管,此款設備專為高溫高壓實驗設計，Z高壓力高達20MPa，Z高溫度可達1100℃，并可通入多種氧化或惰性保護氣體。對于高壓制備新材料和作為小型熱等靜壓處理合金樣品，這是一款理想的高溫管式爐。

12升1700℃高溫氫氣爐是一款通過CE認證的高溫氫氣爐，此款儀器專門針對于材料在氫氣環(huán)境或惰性氣體環(huán)境進行燒結(jié)或是退火，其Z高溫度可高達1700℃。KSL-1700X-H2采用氧化鋁纖維作為爐膛材料（爐膛尺寸為8“x 8“x12“），以鉬絲作為加熱元件，爐體頂部密封板中嵌有冷卻水管，以保證儀器工作時的密封性能。對需在惰性氣體或還原性氣體環(huán)境下燒結(jié)的材料（如熒光材料，鈦合金等）。

OTF-1200X-HP-III-W是一款帶有石英窗口的高溫高壓爐，爐管采用高溫鎳基合金鋼制作，可承受的Z高溫度為1100℃。兩端法蘭上都安裝有石英窗口，可允許各種波長的光通過整個爐管。所以，此款管式爐特別適合在高溫高壓的環(huán)境下進行光學氣體分析實驗。

OTF-1200X-VHP4開啟式立式爐，標配dia4”石英管真空密封，20T電動壓力機。是在真空高壓下制備致密化合物材料的理想工具，在5噸壓力下可鍵合多層基片。爐子可以加熱到1100 oC并且30段程序控溫。帶水冷的法蘭可使真空度達到10-5Torr（用分子泵）。

OTF-1200X80-HPV-III-GF是一款高溫高壓管式爐，爐體擁有三個溫區(qū)。儀器中配有氣體控制柜，可使爐管內(nèi)的氣壓在升降溫過程中保持恒定，特別是對于氧化物的處理，可使爐管內(nèi)的氧分壓保持恒定。爐管采用高溫鎳基合金鋼制作，Z高可耐溫1100℃。此款高溫高壓爐特意設計為氧化物超導線和氧化物陶瓷進行熱處理。