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  • 氣體可流動(dòng)高溫高壓管式爐--OTF-1200X80-HPV-III-GF

    OTF-1200X80-HPV-III-GF是一款高溫高壓管式爐,爐體擁有三個(gè)溫區(qū)。儀器中配有氣體控制柜,可使?fàn)t管內(nèi)的氣壓在升降溫過(guò)程中保持恒定,特別是對(duì)于氧化物的處理,可使?fàn)t管內(nèi)的氧分壓保持恒定。爐管采用高溫鎳基合金鋼制作,Z高可耐溫1100℃。此款高溫高壓爐特意設(shè)計(jì)為氧化物超導(dǎo)線和氧化物陶瓷進(jìn)行熱處理。

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    產(chǎn)品價(jià)格:面議
    廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
    更新日期:2024-09-05
  • 雙管滑動(dòng)快速加熱冷卻爐-OTF-1200X-4-C4LVS

    OTF-1200X-4-C4LVS 雙管爐是 一個(gè)特殊的雙管CVD系統(tǒng),是專門(mén)為在金屬箔上生長(zhǎng)薄膜而設(shè)計(jì),特別是應(yīng)用在新一代能源關(guān)于柔性金屬箔電極方面的研究,通過(guò)滑動(dòng)爐子實(shí)現(xiàn)快速加熱和冷卻。請(qǐng)點(diǎn)擊下圖觀看爐子的工作原理。

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  • 單管滑動(dòng)快速加熱冷卻爐-OTF-1200X-80SL

    單管滑動(dòng)快速加熱冷卻爐OTF-1200X-80SL是一款CE認(rèn)證的可滑動(dòng)管式爐,配置dia3”x55” 石英管,工作溫度Z高達(dá)1200°C。爐底安裝一對(duì)滑軌,可用手動(dòng)滑動(dòng)。加熱和冷卻速率Z大可達(dá)100°C/m。為取得Z快加熱,可以預(yù)先加熱爐子到設(shè)定的溫度,然后移動(dòng)爐子到樣品位置。為獲得Z快冷卻,可在樣品加熱后移動(dòng)爐子到另一端。加熱和冷卻速率在真空或者惰性氣體環(huán)境下可以達(dá)到10°C/s,是低成本快

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  • 小型1000℃RTP爐-OTF-1200X-4-RTP

    OTF-1200X-4-RTP 是一款精巧型快速熱處理管式爐,配有4“ 石英管和真空法蘭, 它是專為半導(dǎo)體或太陽(yáng)能電池基片(Z大達(dá)3“)的退火而設(shè)計(jì),采用10KW紅外燈管加熱Z快升溫速度為 50°C/秒. 30 段溫度控制,精度為 +/-1°C. 計(jì)算機(jī)通過(guò)RS485口和控制軟件實(shí)時(shí)控制爐子和顯示溫度曲線 。

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  • OTF-1200X-4-R-Ⅱ1200℃雙溫區(qū)可傾斜旋轉(zhuǎn)爐--OTF-1200X-4-R-Ⅱ

    OTF-1200X-4-R--Ⅱ是一款通過(guò)CE認(rèn)證的雙溫區(qū)可旋轉(zhuǎn)管式爐,此款設(shè)備專門(mén)針對(duì)于材料的混合燒結(jié),特別適用于鋰離子電池材料的混合燒結(jié),如 LiFePO4、LiMnNiO4等。設(shè)備爐管直徑為4“,采用兩個(gè)溫區(qū)進(jìn)行加熱可以提供更長(zhǎng)的加熱區(qū)域和恒溫區(qū)。

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  • 單溫區(qū)GSL-1100X-6-S6單溫區(qū)CVD真空管式爐

    GSL-1100X-6-S 是一款爐管內(nèi)徑為 6“ 的真空管式爐 , 它可以在Z大5“的基片上生長(zhǎng)多種薄膜(在不同氣氛下). 該爐的Z高工作溫度為 1100°C, 采用30段可編程PID數(shù)字溫度控制器,溫控精度: ±1°C。

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    更新日期:2024-09-05
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