當前位置:首頁 > 產(chǎn)品中心 > > CVD、PECVD設備 > OTF-1200X-50-4CLV-PE4路質(zhì)子混氣管式PECVD系統(tǒng)
簡要描述:4路質(zhì)子混氣管式PECVD系統(tǒng)為了使化學反應能在較低的溫度下進行,利用了等離子體的活性來促進反應,因而這種CVD稱為等離子體增強化學氣相沉積法(PECVD), 內(nèi)爐膛表面涂有美國進口的高溫氧化鋁涂層可以提高設備的加熱效率,同時也可以延長儀器的使用壽命。
產(chǎn)品分類
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4路質(zhì)子混氣管式PECVD系統(tǒng)技術參數(shù)
實驗機理 |
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產(chǎn)品特點 |
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開啟式管式爐 |
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等離子射頻電源 |
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真空泵和閥門 |
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質(zhì)量流量計 |
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4路質(zhì)子混氣管式PECVD系統(tǒng)細節(jié)圖展示 |
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外形尺寸 |
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操作視頻 | 多通道質(zhì)量控制高真空PECVD管式爐系統(tǒng) | ||||
質(zhì)保期 | 一年質(zhì)保期相關耗材除外,如加熱元件,密封圈等易耗件 | ||||
質(zhì)量認證 | CE認證 | ||||
國家 | 名稱:可組合式等離子增強化學氣相沉積裝置 編號:ZL-2011-2-0355777.1 尊重創(chuàng)新、鄙視抄襲、侵權必究 |
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