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VTC-5RF是一款5靶頭的等離子射頻磁控濺射儀,針對(duì)于高通量MGI(材料基因組計(jì)劃)薄膜的研究。特別適合用于探索固態(tài)電解質(zhì)材料,通過5種元素,按16種不同配比組合。
射頻等離子磁控濺射鍍膜儀是一款小型的射頻(RF)等離子體磁控濺射鍍膜儀系統(tǒng),系統(tǒng)中包含了所有所需的配件,如300W(13.5MHz)的RF電源、2“的磁控濺射頭、石英真空腔體、真空泵和溫度控制器等。對(duì)于制作一些金屬薄膜及非金屬薄膜,它是一款物美價(jià)廉的實(shí)驗(yàn)幫手。
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