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當(dāng)前位置:首頁   >  產(chǎn)品中心   >  薄膜制備全套設(shè)備  >  射頻等離子磁控濺射鍍膜儀

  • VTC-5RFI薄膜研究5靶頭等離子射頻磁控濺射儀

    VTC-5RF是一款5靶頭的等離子射頻磁控濺射儀,針對于高通量MGI(材料基因組計劃)薄膜的研究。特別適合用于探索固態(tài)電解質(zhì)材料,通過5種元素,按16種不同配比組合。

    訪問次數(shù):3847
    產(chǎn)品價格:面議
    廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
    更新日期:2025-02-11
  • VTC-2RF射頻等離子磁控濺射鍍膜儀

    射頻等離子磁控濺射鍍膜儀是一款小型的射頻(RF)等離子體磁控濺射鍍膜儀系統(tǒng),系統(tǒng)中包含了所有所需的配件,如300W(13.5MHz)的RF電源、2“的磁控濺射頭、石英真空腔體、真空泵和溫度控制器等。對于制作一些金屬薄膜及非金屬薄膜,它是一款物美價廉的實驗幫手。

    訪問次數(shù):4440
    產(chǎn)品價格:面議
    廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
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