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MSK-NFES-3C靜電紡絲機(jī)（靜電紡絲）可應(yīng)用于生物高分子、通用高分子、預(yù)聚體納米纖維制備，高分子共混物納米纖維的制備，具有納米孔洞、納米顆粒、納米珠串結(jié)構(gòu)的表面或薄膜的制備。$n $n 免責(zé)聲明：本站產(chǎn)品介紹內(nèi)容（包括產(chǎn)品圖片、產(chǎn)品描述、技術(shù)參數(shù)等）僅供參考?？赡苡捎诟虏患皶r(shí)和不可預(yù)知的BUG造成數(shù)據(jù)與實(shí)物的偏差。如果您對(duì)參數(shù)有異議，或者想了解產(chǎn)品詳細(xì)信息，請(qǐng)與本公司銷(xiāo)售人員。
VTC-5RF是一款5靶頭的等離子射頻磁控濺射儀，針對(duì)于高通量MGI（材料基因組計(jì)劃）薄膜的研究。特別適合用于探索固態(tài)電解質(zhì)材料，通過(guò)5種元素，按16種不同配比組合。
火焰輔助噴霧熱分解涂覆 has been developed for research in surface quality improvement of metallic alloys and ceramics. In this technique, solution is sprayed on to a heated substrate through an oxygenacetylene
超聲波霧化模塊是利用超聲波能量將液體或是膠狀法分散成微米級(jí)的顆粒，其特點(diǎn)為霧粒噴出的初速度較小，且分散的霧粒尺寸較均勻。MSK-SP-01A就是一超聲霧化模塊，含有130W，40KHz的超聲波源，客戶可自行搭建超聲霧化制膜設(shè)備。
雙靶磁控濺射儀是一款帶有兩個(gè)靶頭的磁控濺射鍍膜儀，其中一個(gè)靶頭采用直流（DC）濺射，可濺射金屬靶材制備金屬膜，另一個(gè)采用射頻（RF）濺射，可濺射金屬和氧化物靶材，制備金屬或氧化物膜.設(shè)備上安裝有薄膜測(cè)厚儀可以實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)薄膜的厚度。此設(shè)備可制作各種單層或多層薄膜，如鐵電、導(dǎo)電，合金，半導(dǎo)體，陶瓷，介電，光學(xué)，氧化物和PTFE薄膜等。而且設(shè)備體積較小操作方便，是一套理想的實(shí)驗(yàn)工具。
直流等離子磁控濺射鍍膜儀是一款小型的直流（DC）等離子體磁控濺射鍍膜儀系統(tǒng)，系統(tǒng)中包含了所有所需的配件，如500W（600V）的DC電源、2英寸的磁控濺射頭、石英真空腔體、真空泵和溫度控制器等。對(duì)于制作一些金屬薄膜，它是一款物美價(jià)廉的實(shí)驗(yàn)手。
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