薄膜制備全套設(shè)備_第(8)頁-中美合資合肥科晶材料技術(shù)有限公司

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薄膜制備全套設(shè)備

3靶等離子濺射儀火焰輔助噴霧熱分解涂覆設(shè)備超聲波霧化模塊多功能試樣表面處理機(jī) 小型蒸鍍儀高真空蒸發(fā)鍍膜儀小型磁控射頻濺射鍍膜儀射頻等離子磁控濺射鍍膜儀直流等離子磁控濺射鍍膜儀雙靶磁控濺射儀提拉涂膜設(shè)備旋轉(zhuǎn)涂層設(shè)備（勻膠機(jī)）流延涂覆機(jī) 磁控濺射鍍膜設(shè)備蒸發(fā)鍍膜設(shè)備等離子鍍膜設(shè)備熱噴涂鍍膜設(shè)備/靜電紡絲鍍膜設(shè)備濺射源及真空腔體查看全部產(chǎn)品

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膜厚監(jiān)測(cè)儀--EQ-TM106

EQ-TM106膜厚監(jiān)測(cè)儀是采用石英晶體振蕩原理，結(jié)合先進(jìn)的頻率測(cè)量技術(shù)，進(jìn)行膜厚的在線監(jiān)測(cè)。主要應(yīng)用于MBE、OLED熱蒸發(fā)、磁控濺射等設(shè)備的薄膜制備過程中，對(duì)膜層厚度及鍍膜速率進(jìn)行實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)。根據(jù)實(shí)時(shí)速率可以輸出PWM模擬量，作為膜厚傳感器使用，與調(diào)節(jié)儀和蒸發(fā)電源配合實(shí)現(xiàn)蒸發(fā)源的閉環(huán)速率控制。

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更新日期：2024-09-05

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500W直流等離子磁控濺射鍍膜儀--VTC-2DC

VTC-2DC是一款小型的直流（DC）等離子體磁控濺射鍍膜儀系統(tǒng)，系統(tǒng)中包含了所有所需的配件，如500W（600V）的DC電源、2英寸的磁控濺射頭、石英真空腔體、真空泵和溫度控制器等。對(duì)于制作一些金屬薄膜，它是一款物美價(jià)廉的實(shí)驗(yàn)手。

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廠商性質(zhì)：生產(chǎn)廠家
更新日期：2024-09-05

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300W射頻等離子磁控濺射鍍膜儀--VTC-2RF

VTC-2RF是一款小型的射頻（RF）等離子體磁控濺射鍍膜儀系統(tǒng)，系統(tǒng)中包含了所有所需的配件，如300W（13.5MHz）的RF電源、2“的磁控濺射頭、石英真空腔體、真空泵和溫度控制器等。對(duì)于制作一些金屬薄膜及非金屬薄膜，它是一款物美價(jià)廉的實(shí)驗(yàn)幫手。

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產(chǎn)品價(jià)格：面議
廠商性質(zhì)：生產(chǎn)廠家
更新日期：2024-09-05

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1英寸小型磁控射頻濺射鍍膜儀--VTC-1RF

VTC-1RF是一款小型臺(tái)式單靶等離子濺射儀（射頻磁控型），配有1英寸的磁控等離子濺射頭和射頻（RF）等離子電源，此款設(shè)備主要用于制作非導(dǎo)電薄膜，特別是一些氧化物薄膜。對(duì)于新型非導(dǎo)電薄膜的探索，它是一款廉價(jià)并且高效的實(shí)驗(yàn)幫手。

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VTC-600-2HD型雙靶磁控濺射儀

VTC-600-2HD雙靶磁控濺射儀是一款帶有兩個(gè)靶頭的磁控濺射鍍膜儀，其中一個(gè)靶頭采用直流（DC）濺射，可濺射金屬靶材制備金屬膜，另一個(gè)采用射頻（RF）濺射，可濺射金屬和氧化物靶材，制備金屬或氧化物膜.設(shè)備上安裝有薄膜測(cè)厚儀可以實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)薄膜的厚度。此設(shè)備可制作各種單層或多層薄膜，如鐵電、導(dǎo)電，合金，半導(dǎo)體，陶瓷，介電，光學(xué)，氧化物和PTFE薄膜等。而且設(shè)備體積較小操作方便，是一套理想的實(shí)驗(yàn)工具。

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