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MSK-NFES-3C靜電紡絲機(jī)（靜電紡絲）可應(yīng)用于生物高分子、通用高分子、預(yù)聚體納米纖維制備，高分子共混物納米纖維的制備，具有納米孔洞、納米顆粒、納米珠串結(jié)構(gòu)的表面或薄膜的制備。$n $n 免責(zé)聲明：本站產(chǎn)品介紹內(nèi)容（包括產(chǎn)品圖片、產(chǎn)品描述、技術(shù)參數(shù)等）僅供參考?？赡苡捎诟虏患皶r(shí)和不可預(yù)知的BUG造成數(shù)據(jù)與實(shí)物的偏差。如果您對參數(shù)有異議，或者想了解產(chǎn)品詳細(xì)信息，請與本公司銷售人員。
VTC-5RF是一款5靶頭的等離子射頻磁控濺射儀，針對于高通量MGI（材料基因組計(jì)劃）薄膜的研究。特別適合用于探索固態(tài)電解質(zhì)材料，通過5種元素，按16種不同配比組合。
火焰輔助噴霧熱分解涂覆 has been developed for research in surface quality improvement of metallic alloys and ceramics. In this technique, solution is sprayed on to a heated substrate through an oxygenacetylene
超聲波霧化模塊是利用超聲波能量將液體或是膠狀法分散成微米級的顆粒，其特點(diǎn)為霧粒噴出的初速度較小，且分散的霧粒尺寸較均勻。MSK-SP-01A就是一超聲霧化模塊，含有130W，40KHz的超聲波源，客戶可自行搭建超聲霧化制膜設(shè)備。
雙靶磁控濺射儀是一款帶有兩個(gè)靶頭的磁控濺射鍍膜儀，其中一個(gè)靶頭采用直流（DC）濺射，可濺射金屬靶材制備金屬膜，另一個(gè)采用射頻（RF）濺射，可濺射金屬和氧化物靶材，制備金屬或氧化物膜.設(shè)備上安裝有薄膜測厚儀可以實(shí)時(shí)監(jiān)測薄膜的厚度。此設(shè)備可制作各種單層或多層薄膜，如鐵電、導(dǎo)電，合金，半導(dǎo)體，陶瓷，介電，光學(xué)，氧化物和PTFE薄膜等。而且設(shè)備體積較小操作方便，是一套理想的實(shí)驗(yàn)工具。
直流等離子磁控濺射鍍膜儀是一款小型的直流（DC）等離子體磁控濺射鍍膜儀系統(tǒng)，系統(tǒng)中包含了所有所需的配件，如500W（600V）的DC電源、2英寸的磁控濺射頭、石英真空腔體、真空泵和溫度控制器等。對于制作一些金屬薄膜，它是一款物美價(jià)廉的實(shí)驗(yàn)手。
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