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MSK-TH-04FA has been developed for research in surface quality improvement of metallic alloys and ceramics. In this technique, solution is sprayed on to a heated substrate through an oxygenacetylene
噴霧熱解制膜法，是將溶液霧化后噴涂到加熱的基底上，然后在基底上得到想得到的物質(zhì)結(jié)構(gòu)。此種材料制備方法特別適用于沉積氧化物，而且在制備透明電極的應(yīng)用中已有相當(dāng)長(zhǎng)的歷史?，F(xiàn)在這種方法在制備鈣鈦礦型太陽(yáng)能電池中得廣泛用。 MSK-SP-04-LD是一款超聲噴霧熱解設(shè)備，它可以精確控制溶液化學(xué)計(jì)量比、霧粒的噴出速度和霧粒大小等參數(shù)。采用步進(jìn)電機(jī)和微處理器來(lái)控制容積泵來(lái)精確輸送溶劑。一個(gè)超聲波霧化器
超聲波霧化是利用超聲波能量將液體或是膠狀法分散成微米級(jí)的顆粒，其特點(diǎn)為霧粒噴出的初速度較小，且分散的霧粒尺寸較均勻。MSK-SP-01A就是一超聲霧化模塊，含有130W，40KHz的超聲波源，客戶(hù)可自行搭建超聲霧化制膜設(shè)備。
HVMSS-SPC-2是一款可安裝直徑為2英寸靶材的磁控濺射頭，可適用的靶材種類(lèi)較廣，如金屬/絕緣靶材或磁性/非磁性靶材。環(huán)形NdFeB永磁體安裝在濺射頭上，以保證濺射鍍膜的效率和均勻性。此款濺射頭可與DC或RF電源配合使用。
500W直流濺射電源--DC-500-LD
HVMSS-SPC-1-LD是一款磁控濺射頭，可安裝直徑為1英寸的靶材?？膳c直流、脈沖直流和射頻電源相匹配，以至于可以濺射各種靶材（如金屬、陶瓷、磁性和非磁性靶材等）。而且高真空的結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)，可提高鍍膜質(zhì)量。
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