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  • 火焰輔助噴霧熱分解涂覆設(shè)備--MSK-TH-04FA

    MSK-TH-04FA has been developed for research in surface quality improvement of metallic alloys and ceramics. In this technique, solution is sprayed on to a heated substrate through an oxygenacetylene

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    更新日期:2024-09-05
  • 超聲霧化熱解涂覆薄膜設(shè)備-- MSK-SP-04-LD

    噴霧熱解制膜法,是將溶液霧化后噴涂到加熱的基底上,然后在基底上得到想得到的物質(zhì)結(jié)構(gòu)。此種材料制備方法特別適用于沉積氧化物,而且在制備透明電極的應(yīng)用中已有相當(dāng)長的歷史。現(xiàn)在這種方法在制備鈣鈦礦型太陽能電池中得廣泛用。 MSK-SP-04-LD是一款超聲噴霧熱解設(shè)備,它可以精確控制溶液化學(xué)計(jì)量比、霧粒的噴出速度和霧粒大小等參數(shù)。采用步進(jìn)電機(jī)和微處理器來控制容積泵來精確輸送溶劑。一個(gè)超聲波霧化器

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  • 超聲波霧化模塊(含130W的電源控制器和噴頭)--MSK-SP-01A

    超聲波霧化是利用超聲波能量將液體或是膠狀法分散成微米級(jí)的顆粒,其特點(diǎn)為霧粒噴出的初速度較小,且分散的霧粒尺寸較均勻。MSK-SP-01A就是一超聲霧化模塊,含有130W,40KHz的超聲波源,客戶可自行搭建超聲霧化制膜設(shè)備。

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  • 2英寸高真空磁控濺射頭--HVMSS-SPC-2-LD

    HVMSS-SPC-2是一款可安裝直徑為2英寸靶材的磁控濺射頭,可適用的靶材種類較廣,如金屬/絕緣靶材或磁性/非磁性靶材。環(huán)形NdFeB永磁體安裝在濺射頭上,以保證濺射鍍膜的效率和均勻性。此款濺射頭可與DC或RF電源配合使用。

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    更新日期:2024-09-05
  • 500W直流濺射電源--DC-500-LD

    500W直流濺射電源--DC-500-LD

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  • 1英寸高真空磁控濺射頭--HVMSS-SPC-1-LD

    HVMSS-SPC-1-LD是一款磁控濺射頭,可安裝直徑為1英寸的靶材??膳c直流、脈沖直流和射頻電源相匹配,以至于可以濺射各種靶材(如金屬、陶瓷、磁性和非磁性靶材等)。而且高真空的結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì),可提高鍍膜質(zhì)量。

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